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Trabalho de evento-resumo
EXAFS analysis on SiOxNy films (2006)
Criado, Denise ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Abstracts. Conference titles: Brazilian MRS Meeting. Unidades: IF, EP
Assunto: MATERIAIS
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ABNT
CRIADO, Denise e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. EXAFS analysis on SiOxNy films. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Criado, D., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). EXAFS analysis on SiOxNy films. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais.
NLM
Criado D, Fantini MC de A, Pereyra I. EXAFS analysis on SiOxNy films. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 abr. 28 ]
Vancouver
Criado D, Fantini MC de A, Pereyra I. EXAFS analysis on SiOxNy films. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 abr. 28 ]
Trabalho de evento-resumo
Exafs analysis on sioxny films (2006)
Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Criado, Denise
Source: Poster Session G522. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais (SBPMat. Unidades: IF, EP
Assunto: MATERIAIS (PESQUISA)
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ABNT
PEREYRA, Inés e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e CRIADO, Denise. Exafs analysis on sioxny films. 2006, Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2006. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf. Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Pereyra, I., Fantini, M. C. de A., & Criado, D. (2006). Exafs analysis on sioxny films. In Poster Session G522. Rio de Janeiro: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf
NLM
Pereyra I, Fantini MC de A, Criado D. Exafs analysis on sioxny films [Internet]. Poster Session G522. 2006 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf
Vancouver
Pereyra I, Fantini MC de A, Criado D. Exafs analysis on sioxny films [Internet]. Poster Session G522. 2006 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf
Artigo de periodico
Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications (2006)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Journal of non-crystalline solids. Unidades: IF, EP
Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, ESTRUTURA DOS SÓLIDOS, FILMES FINOS
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications. Journal of non-crystalline solids, v. 352, n. 23-25, p. 2319-2323, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012. Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications. Journal of non-crystalline solids, 352( 23-25), 2319-2323. doi:10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications [Internet]. Journal of non-crystalline solids. 2006 ; 352( 23-25): 2319-2323.[citado 2024 abr. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
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Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications [Internet]. Journal of non-crystalline solids. 2006 ; 352( 23-25): 2319-2323.[citado 2024 abr. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
Artigo de periodico
Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films (2006)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Subjects: FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films. Journal of Non-Crystalline Solids, v. 352, n. 9-20, p. 1298-1302, 2006Tradução . . Disponível em: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e. Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films. Journal of Non-Crystalline Solids, 352( 9-20), 1298-1302. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2006 ; 352( 9-20): 1298-1302.[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e
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Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2006 ; 352( 9-20): 1298-1302.[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e
Trabalho de evento-resumo
Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD (2006)
Ribeiro, M.; Criado, Denise ; Aparecido, R.; Pereyra, Inés
Source: Abstracts. Conference titles: Brazilian MRS Meeting. Unidade: EP
Assunto: MATERIAIS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RIBEIRO, M. et al. Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Ribeiro, M., Criado, D., Aparecido, R., & Pereyra, I. (2006). Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais.
NLM
Ribeiro M, Criado D, Aparecido R, Pereyra I. Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 abr. 28 ]
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Ribeiro M, Criado D, Aparecido R, Pereyra I. Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 abr. 28 ]
Trabalho de evento-resumo
Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films (2004)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Program. Conference titles: Encontro da SBPMat. Unidades: IF, EP
Subjects: MATERIAIS, FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
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Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Trabalho de evento-resumo
Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress (2004)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Program. Conference titles: Encontro da SBPMat. Unidades: IF, EP
Subjects: MATERIAIS, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CRIADO, Denise et al. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Artigo de periodico
Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD (2004)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Materials Science and Engineering B. Unidades: IF, EP
Subjects: MATERIAIS, MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS, FÍSICA DE PLASMAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CRIADO, Denise et al. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD. Materials Science and Engineering B, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017. Acesso em: 28 abr. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD. Materials Science and Engineering B. doi:10.1016/j.mseb.2004.05.017
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD [Internet]. Materials Science and Engineering B. 2004 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD [Internet]. Materials Science and Engineering B. 2004 ;[citado 2024 abr. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017

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